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智能化学气相沉积法制备多类功能/结构薄膜的技术和设备

时间:2020-08-17 17:15来源:未知 作者:admin 点击:
一、项目简介: 本团队研制开发了具有自主知识产权的智能喷液雾化-多元共析化学气相沉积设备及相应的多类功能及结构薄膜制备技术,适用于在一维(1D)、二维(2D)及三维(3D)大尺
一、项目简介:
       本团队研制开发了具有自主知识产权的“智能喷液雾化-多元共析化学气相沉积设备”及相应的“多类功能及结构薄膜制备技术”,适用于在一维(1D)、二维(2D)及三维(3D)大尺寸、异形工件或基体上使用化学气相沉积法制备各种功能/结构薄膜材料,能赋予工件更多的功能及更为优越的性能,扩大工件的应用范围,能为机械、微电子、光学、汽车、模具、电学及航空航天等领域提供需要的多种新型膜材料,适用范围广,安全性能高。
 
二、目前项目所处阶段:
       本技术已达到工业化使用标准,适用于化学气相沉积法制备多类功能/结构薄膜,适用范围广,市场需求大、安全性能高。特别是研制的700mm*700mm*700mm类大尺寸碳化硅镀膜设备,已在相关的多家科研院所和高新技术企业成功推广应用。此类型大尺寸碳化硅镀膜设备在我国尚无资料报道,本成果打破发达国家的技术垄断,填补了我国在该领域的技术空白,经济效益显著。目前已与多家企业和科研院所有合作,并且生产的产品性能优异,均能够满足对方需求。

三、该项目与现有技术或工艺比较所具有的优势:
       CVD薄膜制备技术是80年代后期出现的新技术,日本、德国、美国在该方面技术遥遥领先。目前我国在CVD设备制备技术方面几乎是一片空白;目前市面上尚没有公司或企业出售CVD相关设备;我国的科研人员对CVD设备的了解,目前还停留在80年代初期管式炉的层次上。该项目填补了国内在CVD设备技术方面的空白。
       搭载的“喷液雾化-多元共析液体原料供给系统”解决了以往CVD设备中固体原料蒸发罐供给系统在工业应用中无法长时间提供精确、持续、稳定的原料蒸气难题。能精准地控制多元化合物原料的各元素化学计量比,特别是能精准控制多元薄膜材料的化学成分,并能长时间提供精确、持续、稳定的原料蒸气,彻底解决原料浪费现象,是工业化应用必备的条件。
       搭载的“智能真空度控制系统”,能精准控制本设备腔体内的压强,并能将腔体真空度维持在100-1000 Pa之间的任意设定值,能保证工业生产时薄膜质量的精准控制。
       搭载的“智能操控系统”能实现能用电脑精准控制薄膜沉积过程中的每个动作,实现了全自动智能化操作,杜绝了人为操作出现的失误的情况,解决了样品可重复性差这一难题。

四、应用领域:
       本技术已达到工业化使用标准,适用于化学气相沉积法制备多类功能及结构薄膜,能为机械、微电子、光学、汽车、模具、电学及航空航天等领域提供需要的各类新型材料。适用范围广,安全性能高。

五、应用前景:
       本技术适用于在一维(1D)、二维(2D)及三维(3D)工件或基体上制备各种功能、结构薄膜。例如700mm*700mm*700mm大尺寸碳化硅类镀膜设备在我国尚无资料报道,本成果填补了该领域的技术空白,在市场竞争中具有据巨大优势,经济效益显著。


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